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UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)

簡要描述:UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域,廣泛使用于大專院校、科研院所實(shí)驗(yàn)室的金屬、陶瓷、玻璃、紅外光學(xué)材料(如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體)、巖樣、礦樣、有機(jī)高分子材料、復(fù)合材料等材料樣品的自動(dòng)研磨拋光,以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)等。

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2024-11-13
  • 訪  問  量:873
詳細(xì)介紹
品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間5萬-10萬
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域建材,航天,汽車,電氣,綜合

產(chǎn)品簡介:UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域,廣泛使用于大專院校、科研院所實(shí)驗(yàn)室的金屬、陶瓷、玻璃、紅外光學(xué)材料(如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體)、巖樣、礦樣、有機(jī)高分子材料、復(fù)合材料等材料樣品的自動(dòng)研磨拋光,以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)等。該研磨拋光機(jī)設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位,可以分別進(jìn)行研磨、拋光操作,既避免了交叉污染,又提高了工作效率。本機(jī)采用機(jī)械加壓模式對(duì)被研磨樣品加壓,壓力施加于載物盤的中心,使整個(gè)載物盤受力均勻。通過手觸控制屏對(duì)設(shè)備進(jìn)行控制,上盤可以進(jìn)行順時(shí)針旋轉(zhuǎn)也可以進(jìn)行逆時(shí)針旋轉(zhuǎn),下盤作順時(shí)針旋轉(zhuǎn),通過樣品盤的材質(zhì)不同可以選擇上盤的旋轉(zhuǎn)方向。機(jī)器工作過程中噪音小,具有研磨定時(shí)功能,時(shí)間到機(jī)器自動(dòng)停止,可以實(shí)現(xiàn)無人看守工作。



產(chǎn)品名稱

UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)

產(chǎn)品型號(hào)

UNIPOL-1000D

安裝條件

本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:設(shè)備配有上水口及下水口,需自行連接自來水及排水

2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地

3、氣:無

4、工作臺(tái):尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上

5、通風(fēng)裝置:不需要

主要特點(diǎn)

1、設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位,可分別進(jìn)行研磨、拋光操作。

2、中心加載壓力,壓力穩(wěn)定可靠。

3、性能優(yōu)良,操作簡單,適用范圍廣。

技術(shù)參數(shù)

1、電源:220V  50Hz

2、載物盤:?150mm

3、桃型孔:?25.4mm

4、磨拋盤:?250mm

5、載物盤(上盤)轉(zhuǎn)速:10rpm-80rpm(無級(jí)調(diào)速)

6、磨拋盤(下盤)轉(zhuǎn)速:50rpm-400rpm(增量調(diào)速,最小增量10)

7、壓力:0.5kg-20kg(最小增量0.5kg)

產(chǎn)品規(guī)格

尺寸:780mm×590mm×750mm;重量:100kg

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